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常壓射流等離子處理機設(shè)備簡介

等離子清洗機 人氣:1824 發(fā)表時間:2020-12-24

常壓射流等離子處理機由等離子發(fā)生器、氣體輸送系統(tǒng)、壓力保護系統(tǒng)及等離子噴頭等部分組成。


plasma等離子表面處理工藝原理示意圖-金鉑利萊科技

(1)常壓射流等離子處理機設(shè)備簡介

設(shè)備名稱:常壓射流等離子處理機

電源系統(tǒng):AC220V(±20%)(金鉑利萊自主研發(fā))
功率: 1000VA
10-80mm,火焰長度:15mm
主機重量:15kg
使用溫度范圍:-10℃~+40℃
相對濕度:<93%(不結(jié)露)        
貯存環(huán)境:溫度: -25℃~+40℃;
相對濕度: <93%(40℃);

大氣壓力: 0.3~0.5MPa

十大名牌等離子清洗機選型指南-金鉑利萊科技

(2)工作原理:

  等離子發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量在噴嘴鋼管中被激活和被控制的輝光放電中將空氣電離,產(chǎn)生了低溫等離子體,借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面,當(dāng)?shù)入x子體與被處理物體表面相遇時,產(chǎn)生了一系列化學(xué)作用和物理變化,表面得到了清潔,去除了碳化氫類污物,如油脂、輔助添加劑等,根據(jù)材料成分,其表面分子鏈結(jié)構(gòu)得到了改變。引入了多種含氧基團,使表面由非極性、難粘性轉(zhuǎn)為有一定極性、易粘性和親水性,有利于粘結(jié)、涂覆和印刷。

(3)設(shè)備特點:

  針對三維物體均勻高效的處理,良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。

(4)設(shè)備用途:

   常壓射流等離子處理機適用于半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、納米材料、光學(xué)電子、平板顯示、航空航天、科研及通用工業(yè)領(lǐng)域。

1.攝像頭、指紋識別行業(yè):軟硬結(jié)合板金PAD表面去氧化;IR表面清洗、清潔。
2.半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗

3.硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域:硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。

4. 邦定板的清潔:改善打線效果;
5. 改善塑膠材料的膠接性能:等離子技術(shù)很適合處理膠接前的塑料、金屬、陶瓷、玻璃等材料。






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