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淺談等離子蝕刻基材表面的原理

等離子清洗機 人氣:2602 發表時間:2017-12-26
  等離子蝕刻基材表面是在等離子蝕刻過程中,通過處理氣體的作用,被蝕刻物會變成氣相。處理氣體和基體物質被真空泵抽出,表面連續被新鮮的處理氣體覆蓋,從而達到蝕刻的目的。
 
  在線路板的生產中,等離子蝕刻主要用來對基材表面進行粗化,以增強鍍層與基材的結合力。在下一代較為先進的封裝技術??化學鍍鎳磷制作埋嵌電阻工藝研究中,等離子蝕刻能夠對FR-4或是PI表面進行粗化,從而增強FR-4、PI與鎳磷電阻層的結合力。
 
  化學鍍鎳磷制作埋嵌電阻工藝有以下六個主要工藝步驟:
  (1)使用傳統的生產工藝方法制作出所需的線路圖形;
  (2)使用等離子體蝕刻對基材表面進行粗化;【真空等離子設備】
  (3)然后對使用鈀活化的方法對基材表面活化;
  (4)進行貼干膜、曝光顯影,把需要制作電阻的地方顯影出來;
  (5)緊接著使用化學鍍鎳磷的方法進行埋嵌電阻的制作;
  (6)最后,退去干膜。
 
  通過實驗研究可知,通過等離子處理的基材表面電阻層的結合力更好。特別是需要在PI基材上進行埋嵌電阻的制作時,等離子處理的效果更好。并且使用等離子處理過的基材表面具有一定的活化官能團,從而有助于制作埋嵌電阻的化學反應。
 
  可知,經過等離子處理的基材表面,在經過退膜工序后,鎳磷電阻層與基材表面的結合力完好無損;而沒有經過等離子處理的基材表面,在經過退膜工序后,鎳磷電阻層不能與基材很好的結合,電阻層幾乎全部脫落。